Ziel für die Keramiksputterung Ziel für Indiumoxid

Keramisches Sputtertarget Indiumoxid-Target

Produktbeschreibung:
Unsere verschiedenen keramischen Targets, hergestellt im Vakuum-Heißpress-Sinterverfahren, zeichnen sich durch führende Technologie und ausgereifte Produktionsprozesse aus. Diese Produkte werden hauptsächlich in Dünnschicht-Solarenergie, Flachbildschirmen, optischen Beschichtungen, Halbleitern und militärischen Anwendungen eingesetzt.

Unser Unternehmen arbeitet mit zahlreichen renommierten Universitäten und Hochschulen zusammen und widmet sich der Forschung und Entwicklung neuer Materialien und Verfahren. Wir bieten unseren Kunden im In- und Ausland weiterhin hochwertige Targetprodukte und -dienstleistungen an.

Indiumoxid-Target Einführung:
Ln203 Flachtargets werden im Vakuum-Heißpress-Sinterverfahren hergestellt. Wir können Durchmesser bis zu 300 mm produzieren, wobei die Dicke kundenspezifisch angepasst werden kann.

Technische Parameter:Dichte 5,5 g/cm³, Reinheit: 99,99-99,999%

Qualitätskontrolle: