Produktdetails:
|
Anwendung: | Dünnfilm und Dickfilm Mikroelektronisch, hohe Leistung und Hochfrequenzstromkreisrf-/-mikrowellenkom | Durchmesser: | Ø 1"/Ø 2"/Ø 3"/Ø 4" |
---|---|---|---|
Stärke: | 0,4 Millimeter/0,5 Millimeter/1 Millimeter | Grad: | SÄGE-Grad und optischer Grad |
Hervorheben: | Keramische Oblate des Substrat-Al2O3,Keramisches Substrat der Hitzebeständigkeits-Al2O3,Abnutzungs-Widerstand-Tonerde-keramisches Substrat |
keramische Substratoblate der Tonerde (Al2O3), ausgezeichnete Hitzebeständigkeit, hohe mechnical Stärke, Abnutzungswiderstand
Wir stellen keramische Substrate der Tonerde (Al2O3) zur Verfügung. Substrat Al2O3 ist eins des populärsten keramischen Substrates, das ausgezeichnete Hitzebeständigkeit, hohe mechnical Stärke, Abnutzungswiderstand und kleinen dielektrischen Verlust hat. Die Oberfläche des Tonerdesubstrates ist ziemlich glatt und niedrige Porosität, Substrat der Tonerde 99,6% ist für Dünnfilmgerät passend, 96% Tonerdesubstrat ist passend für Dickfilmgerätanwendung. wir stellen keramische Substrate der Tonerde für eine breite Palette von Anwendungen, einschließlich Dünnfilm zur Verfügung und der Mikroelektronische Dickfilm, die hohe Leistung und Hochfrequenzstromkreisrf-/-mikrowellenkomponenten und Kondensator oder Widerstand, treten mit uns für keramischere OblatenProduktinformation in Verbindung.
Chemische Formel | Al2O3 |
Farbe | weiß |
Dichte | 3,72 g/cm 3 |
Wärmeleitfähigkeit | 22,3 W/m. K |
Thermische Expansion (x10 -6/℃) | 8 |
Durchschlagsfestigkeit | 14E6 |
Dielektrizitätskonstante (an 1MHZ) | 9,5 |
Verlust-Tangente (x10 -4 @1MHZ) | 3 |
Spezifischer Durchgangswiderstand | >1E14 Ohmcm |
Durchmesser | Ø 1"/Ø 2"/Ø 3"/Ø 4" |
---|---|
Quadratische Größe | 10 x 10/20 x 20/50 x 50/100 x 100 Millimeter |
Stärke | 0,4 Millimeter/0,5 Millimeter/1 Millimeter |
Oberfläche | Wie abgefeuert |
eine Seite poliert/zwei Seiten poliert | |
Rauheit | Ra <> |
Ansprechpartner: Daniel
Telefon: 18003718225
Faxen: 86-0371-6572-0196